氧化铝致密吸盘

高洁净：纯度＞99%，无杂质、静电，适配半导体等高洁净场景。

精密吸附：表面粗糙度低（Ra≤0.1μm），吸附力均匀（误差＜±2%），工件无损伤、滑移。

耐高温：耐 300℃以上高温，热膨胀系数与硅接近，热变形小。

抗腐蚀：耐强酸强碱、等离子体，适合干法蚀刻等工艺。

高强度耐磨：1700℃烧结，硬度 1600Hv，寿命长。

绝缘性好：体积电阻率＞10¹⁴Ω・cm，防微短路。

可定制：调整晶粒 / 孔隙率，适配不同热膨胀需求。