
高洁净:纯度>99.5%,无杂质污染,适配半导体等高精密场景。
吸附精准:表面极光滑(Ra≤0.05μm),微孔均匀(Φ20-50μm),吸附力误差<±1.5%,不伤工件。
耐高温:耐 - 200℃~600℃,热膨胀系数与硅接近,高温下变形小。
抗腐蚀:耐强酸强碱、等离子体,寿命>100 万次循环。
高强度:1650℃烧结,硬度 1600Hv,抗冲击、密封性强(泄漏率极低)。
绝缘性:体积电阻率>10¹⁴Ω・cm,避免微短路(如晶圆切割)。
零磁干扰:磁化率<1×10⁻⁶,适用于磁控溅射、电子束加工等磁场敏感场景。
可定制:支持形状、加热 / 防静电功能定制,适配多场景需求。
